是1纳米的芯片。
不过想要把它做出来必须要将相关配套设备做出来才行。
系统很贴心的为韩琛做出光刻机可行性报告。
从报告上来看想要做出X射线光刻机最少要投入1000亿软妹币的研发费用，除了1000亿软妹币的研发费用以外还需要五到六年的时间来研发。
也就是说韩琛投入1000亿软妹币就能够研发出一台28纳米的X光刻机。
想要更高级的工艺那就得继续投钱进行研发。
“要是没记错15年英特尔就推出14纳米的工艺，按照系统介绍15年才能够生产28纳米的光刻机，28纳米可是比14纳米落后了3代以上。”韩琛呢喃道。
28纳米的后面是20纳米和16纳米，最后才到14纳米。
准确的应该说是2代才对，因为16纳米是14纳米失败品，台积电和山星研发14纳米时失败了，在阴差阳错情况下还能生产出16纳米的芯片，所以才说16纳米是14纳米的失败品。
至于系统为什么会说X射线光刻机光刻机生产效率慢到没有朋友。
一台DUV每天能处理94片12寸晶圆，EUV光刻机最高每天能处理3600片，X射线光刻机每天最多只能处理33片12英寸的晶圆。
拿EVU光刻机来跟X射线光刻机来做对比，EUV光刻机的产能是X摄像光刻机的109倍。
也就是说需要109台X射线光刻机才能跟一台EUV光刻机相比。
不过一台X射线光刻机成本只需要60万软妹币，一台EUV光刻机却需要10亿软妹币，如果是设备成本的话一台EUV光刻机是X射线光刻机的1700倍。
换算下来X射线光刻机还是比EUV光刻机光刻机便宜的。
犹豫过后韩琛还是决定研发X射线光刻机，都花了一个亿购买X射线光刻机的技术了，还差这1000亿的研发费吗？